在硅碳專用砂磨機中，物料顆粒的(de)粉碎首先主要是(shi)依靠高(gao)速運動(dong)的(de)磨珠(zhu)間的(de)碰(peng)撞、擠壓、剪切實現物料顆粒的(de)粒度變小，比表(biao)面積增大。在粒度逐漸細(xi)化(hua)的(de)過程中，顆粒在范德華(hua)力、雙電(dian)層靜電(dian)作用等影響下(xia)會重新團聚。

因(yin)此，可(ke)以(yi)認(ren)為顆粒超(chao)細粉(fen)(fen)(fen)碎到(dao)(dao)一定程度后(hou)，伴(ban)隨著一系列顆粒微觀上理化特(te)性的質變，就會出(chu)現一個(ge)“粉(fen)(fen)(fen)碎?團(tuan)聚(ju)(ju)”的可(ke)逆(ni)過程。當(dang)這(zhe)正反兩個(ge)過程的速度相等時(shi)，便達到(dao)(dao)了粉(fen)(fen)(fen)碎過程中的動(dong)態平(ping)衡，則顆粒尺寸(cun)達到(dao)(dao)極(ji)限值。此時(shi)，進(jin)(jin)一步延長粉(fen)(fen)(fen)碎時(shi)間是徒勞(lao)的。因(yin)為這(zhe)時(shi)的機械力已不足以(yi)解聚(ju)(ju)團(tuan)聚(ju)(ju)體使顆粒進(jin)(jin)一步破碎，只能用于(yu)維(wei)持粉(fen)(fen)(fen)碎平(ping)衡，并(bing)有可(ke)能造成更(geng)多小(xiao)顆粒團(tuan)聚(ju)(ju)體，于(yu)是，所謂的“逆(ni)研磨”、“返粗”現象就會出(chu)現。

從某種(zhong)程度(du)上說，分散(san)劑的(de)恰當(dang)選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現象唯一的(de)行之有效的(de)途徑(jing)。分散(san)劑可以影響顆粒之間的(de)范德(de)華力(li)、雙(shuang)電層靜電力(li)、溶劑化膜和吸附層的(de)空間斥(chi)力(li)諸作用。

分散劑的作用原理：使用汽車漆專用砂磨機分散(san)劑(ji)可以穩定分散(san)顆粒體系，防止黏性介(jie)質(zhi)的顆粒團(tuan)聚。可通過三種可能(neng)的途徑：

（1）通過靜電排斥(chi)作用（DLVO理論，Deryagin-Landau-Verwey-Overbeek）；

（2）通(tong)過空(kong)間位阻作(zuo)用（HVO理論，Hesselink-Vrij-Overbeek）；

（3）通過靜(jing)電排斥和空間位阻的綜合作用。

其過程如下：

（1）吸附(fu)于固(gu)體顆粒的(de)表(biao)面，降低液-液或固(gu)-液之間(jian)的(de)界面張力(li)，使凝聚的(de)固(gu)體顆粒表(biao)面易(yi)于濕(shi)潤。

（2）在固體顆粒(li)(li)的(de)(de)表(biao)面形成吸附層，固體顆粒(li)(li)表(biao)面的(de)(de)電荷增加，提高(gao)形成立體阻礙的(de)(de)顆粒(li)(li)間的(de)(de)反作用力。

（3）使固體粒子(zi)表(biao)面形(xing)成雙分(fen)子(zi)層(ceng)(ceng)結(jie)構，外層(ceng)(ceng)分(fen)散(san)劑極性(xing)端與水(shui)有較(jiao)強親合力(li)，形(xing)成空間位阻效(xiao)應。

（4）使體系均(jun)勻，懸浮性(xing)能增(zeng)加，不沉淀(dian)。

一種適宜的分散(san)劑應滿足以下(xia)要求：

（1）分散性能好，防止(zhi)粒(li)子之(zhi)間相互聚集；

（2）與填(tian)料有適(shi)當的相(xiang)容性；熱穩定性良(liang)好；

（3）成型加工時的(de)流動性好；

（4）分散劑分子吸附顆粒為物理吸附，而不影響納米砂磨機產品的性能；

（5）無毒、價廉。